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所属分类:口腔医学相关专业知识题库
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【◆参考答案◆】:D
【◆答案解析◆】:1.常用的化学抗癌药物植物类包括:长春花碱(VLB)、长春新碱(VCR)、喜树碱(camptothecine)。 2.根据各种抗癌药物对细胞周期的作用及其对增殖细胞和休止细胞的敏感性不同,可将现有抗癌化学药物分为细胞周期非特异性药物和细胞周期特异性药物两大类。细胞周期非特异性药物可作用于细胞增殖周期的各期。主要为一些细胞毒素类和抗生素类药物,如氮芥、环磷酰胺、卡氮芥、甲基苄肼、丝裂霉素、阿霉素、抗黑瘤素、泼尼松、顺铂等。 3.常用的抗代谢类化学抗癌药物有甲氨蝶呤(MTX)、5-氟尿嘧啶(5-FU)。 4.细胞毒素类(烷化剂)化学抗癌药物:主要是氮芥及其衍化物,例如氮芥(ni-trogen mustard,HN2)、环磷酰胺(cyclo-phosphamide,endoxan)。
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(2)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 患者,女性,25岁,2周前因楔状缺损引起可复性牙髓炎来院做间接盖髓术,术后已无症状,这次充填选用的最理想材料应是()
A.银汞合金
B.复合树脂
C.玻璃离子水门汀
D.磷酸锌水门汀
E.氧化锌丁香油水门汀
A.银汞合金
B.复合树脂
C.玻璃离子水门汀
D.磷酸锌水门汀
E.氧化锌丁香油水门汀
【◆参考答案◆】:B
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(3)【◆题库问题◆】:[单选,B型题] 上牙槽后神经阻滞麻醉最容易出现的并发症是()
A.局麻药中毒
B.局麻后局部出现血肿
C.暂时性面瘫
D.局麻后翼下颌间隙感染
E.晕厥
A.局麻药中毒
B.局麻后局部出现血肿
C.暂时性面瘫
D.局麻后翼下颌间隙感染
E.晕厥
【◆参考答案◆】:B
【◆答案解析◆】:下牙槽神经阻滞麻醉注射时,注射针把感染带入翼下颌间隙,可引起翼下颌间隙感染;下牙槽神经阻滞麻醉时麻药注入腮腺,麻痹面神经可引起暂时性面瘫;上牙槽后神经阻滞麻醉进针过深可刺破翼静脉丛引起血肿;利多卡因注射过量引起局麻药中毒;紧张、饥饿等局注麻药可出现晕厥。
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(4)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 某患者变色牙,要求烤瓷冠修复,对1牙体预备的要求正确的是()
A.肩台宽度0.5mm
B.可设计为金属颈圈
C.轴面聚合度不超过10°
D.设计为龈上肩台
E.牙体颈缘预备成135°凹面肩台
A.肩台宽度0.5mm
B.可设计为金属颈圈
C.轴面聚合度不超过10°
D.设计为龈上肩台
E.牙体颈缘预备成135°凹面肩台
【◆参考答案◆】:E
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(5)【◆题库问题◆】:[单选,B型题] 牙龈卟啉单胞菌()
A.降低宿主抵抗力和骨吸作用
B.组织破坏作用
C.具有附着和凝集因子和组织破坏作用
D.分泌白细胞毒素
E.A+B+D
A.降低宿主抵抗力和骨吸作用
B.组织破坏作用
C.具有附着和凝集因子和组织破坏作用
D.分泌白细胞毒素
E.A+B+D
【◆参考答案◆】:C
【◆答案解析◆】:伴放线放线杆菌具有降低宿主抵抗力、骨组织破坏和分泌白细胞毒素等多种毒性作用;牙龈卟啉单胞菌具有附着和凝集因子及组织破坏双重作用;中间普氏菌则具有组织破坏作用。
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(6)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 药物过敏性口炎多属于()
A.A.Ⅰ型变态反应B.Ⅱ型变态反应C.Ⅲ型变态反应D.Ⅳ型变态反应E.Ⅴ型变态反应
A.A.Ⅰ型变态反应B.Ⅱ型变态反应C.Ⅲ型变态反应D.Ⅳ型变态反应E.Ⅴ型变态反应
【◆参考答案◆】:A
【◆答案解析◆】:第Ⅰ型变态反应--过敏反应,又叫过敏症型、反应素型,通常包括由异种动物血清及青霉素等药物引起的全身过敏反应。药物过敏性口炎是指过敏性体质的机体通过接触(含漱、涂布、撒敷)、口服或注射等不同途径接触变应原后所产生的口腔黏膜变态反应性炎症。第Ⅱ型变态反应--细胞溶解反应。第Ⅲ型变态反应--免疫复合物反应,又叫血管炎型。第Ⅳ型变态反应--迟发型变态反应或细胞介导迟发型变态反应。第Ⅴ型变态反应--兴奋型过敏反应。
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(7)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 患者,男,23岁,口唇闭合时呈现口腔周围肌肉有紧张感。面中1/3前突,面下1/3高度偏大。Ⅲ度深覆,覆盖6mm,磨牙呈远中关系。ANB6°,FMA35°。上颌拥挤6mm,下颌无拥挤。
A.['['对此患者的诊断可能为()A.上下牙列轻度拥挤B.安氏Ⅰ类错C.安氏Ⅱ类错D.安氏Ⅲ类错E.颏部发育不足
A.['['对此患者的诊断可能为()A.上下牙列轻度拥挤B.安氏Ⅰ类错C.安氏Ⅱ类错D.安氏Ⅲ类错E.颏部发育不足
【◆参考答案◆】:C
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(8)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 龋病充填治疗后远期出现激发痛和自发痛多由于()。
A.充填物有早接触
B.充填物不密合
C.继发龋伴发牙髓炎
D.充填物形成悬突
E.未恢复接触点
A.充填物有早接触
B.充填物不密合
C.继发龋伴发牙髓炎
D.充填物形成悬突
E.未恢复接触点
【◆参考答案◆】:C
【◆答案解析◆】:激发痛和自发痛为牙髓性疼痛,引起激发痛的常见原因有:备洞过程中对牙髓的物理刺激;未垫底或垫底材料选择不当;继发龋。自发痛是牙髓炎的表现,因此C是正确的选项。
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(9)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 某患者戴用全口义齿1周后,主诉上颌腭中缝处有轻度压痛。
【◆参考答案◆】:B
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(10)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 患儿,男性,8岁,乳牙龋坏较多,六龄牙完全萌出,窝沟较深,无明显龋坏,要求预防。该患者首选的龋病预防措施是六龄牙的窝沟封闭。
【◆参考答案◆】:B